（一）酸性溶液
铝及其合金的电解抛光，广泛采用磷酸-硫酸-铬酸型的溶液。其工艺规范列于表2-2-6。
溶液配制方法，可参照钢铁零件电解抛光的相应部分。溶液在使用过程中，三价铬的含量将逐渐升高，过多的三价铬，可以用大面积的阳极通电处理，使之氧化为六价铬。当溶液中的铝含量超过5%时，溶液应部分或全部更换。
氯离子对电解抛光有不利的影响，当氯离子含量超过1%时，零件极易出现点状腐蚀，配制溶液所用的水中，氯离子含量应少于80mg/L。
（二）碱性溶液
纯铝和LT66等铝合金，还可以在以下碱性溶液中进行抛光：
磷酸三钠（Na3PO4·12H2O） 130～150g/L
碳酸钠（Na2CO3） 350～380g/L
氢氧化钠（NaOH） 3～5 g/L
pH值 11～12
电压 12～25V
阳极电流密度 8～12A/dm2
温度 94～98℃
时间 6～10min
阳极用不锈钢板或普通钢板。溶液需搅拌或阳极移动。 表2-2-6 铝及其合金电解抛光的工艺规范
1
2
3
4
5
6
磷酸（H3PO4）（密度1.70）
86～88
43
34
37～42
58
70
硫酸（H2SO4）（密度1.84）
43
34
37～42
41
5
铬酸（CrO3）
14～12
3
4
4.3～4.9
氢氟酸（HF）
10
甘油
1
15
水
密度1.72～1.74
11
28
12～22
温度/℃
75～80
80～90
85～90
80～85
75～85
80～100
电压/V
14～30
10～15
10～18
12～18
12～20
阳极电流密度/A·dm-2
7～12
8～12
20～30
40～50
20～30
≥10
时间/min
3～5
5～8
5～8
1～3
3～5
5～10
阳极材料
铅或不锈钢
注：配方1适用于纯铝、含镁0.3%～0.5%的铝镁合金以及经过热处理的铝镁硅合金。抛光时应搅拌溶液或上、下移动阳极（20～30次/min，行程5～7cm/次）这样可以获得高度光亮表面；
配方2、配方4适用于铝及硬铝合金LY12；
配方3适用于铝、铝镁合金、铝锰合金以及硬铝合金LY1，LY2；
配方5适用于纯铝及铝镁合金LT66；配方6适用于铝硅合金压铸件。应该指出：
（1）碱性电化学抛光溶液虽可用于抛光L1，L2，L3等纯铝和LY66铝镁合金零件，但易在抛光表面生成半透明氧化膜。因此，必须把抛光后的零件浸入磷酸和铬酸的混合溶液（CrO3 10g/L，H3PO4 30mL/L）进行除膜，以降低其表面粗糙度。
（2）当抛光零件表面出现麻点、斑点、条纹或乳白色氧化膜时，可在下列（NaOH 100～150g/L，温度50～60℃，时间10～30s）碱液中溶去全部蚀点和氧化膜，以便重新抛光和回用。
（3）当抛光制件表面出现少量接触铜时，可把零件浸入下列（浓HNO32～5mL/L，CrO3 10～30 g/L，室温，时间30～120s）溶液中，溶解接触铜，以显出光亮表面。
二、化学抛光
铝及其合金的化学抛光工艺规范见表2-2-7。化学抛光溶液中，硝酸的浓度对抛光质量有重大的影响。当硝酸浓度过低时，反应速度低，抛光后的表面光泽较差且往往沉积出较厚的接触铜。硝酸浓度过高时，则容易出现点状腐蚀。磷酸浓度低时，不能获得光亮的表面，为了防止溶液被稀释，抛光前的零件，表面应干燥。醋酸可以抑制点状腐蚀，使抛光表面均匀、细致。硫酸的作用与醋酸相似，但效果略低于醋酸。由于硫酸成本低，挥发性小，因此，在生产中仍然应用得比较广泛。硫酸铵和尿素可以减少氧化氮的析出，并用助于改善抛光质量。少量的铜离子可以防止过腐蚀，从而提高了抛光表面的均匀性，但含铜过高往往会降低抛光表面的反光能力。铬酐可以提高铝锌铜合金的抛光质量，含锌、铜较高的高强度铝合金，在不含铬酐的溶液中，难以获得光亮的表面。
经化学抛光的零件，一般应在400～500g/L的硝酸中或在100～200g/L的铬酐溶液中，在室温下浸渍数秒至数十秒，以除去表面的接触铜。 表2-2-7 铝及铝合金化学抛光工艺规范
1
2
3
4
5
6
7
8
磷酸（H3PO4）（密度1.70）
77.5
80～85
75
75～80
500 mL
78
60～70
硫酸（H2SO4）（密度1.84）
15.5
8.8
10～15
500 mL
20
40～30
硝酸（HNO3）（密度1.50）
6
2.5～5
8.8
3～5
60～65 mL
2
冰醋酸（CH3COOH）
10～15
氢氟酸（HF）
15～20 mL
草酸
2.2
铬酸（CrO3）
2～5g/L
硫酸铜（CuSO4·5H2O）
0.5
0.02
0.5～5g
0.05 g/L
硫酸铵（（NH4）2SO4）
4.4
尿素（（NH2）2CO）
3.1
硼酸（H3BO3）
0.4
甘油
1～2 mL
多硫化合物Sx
0.5～1g
两性离子表面活性剂
0.1～0.2 mL
Al1～2g/L
WXP-1
0.02
M0.02g/L
WXP-2
0.001
N0.01～0.1g/L
WXP-3
0.4
SP0.02～0.04 g/L
时间/min
1～3
2～3
2～3
2～3
2s
1～2
2～6
0.5～2
温度℃
100～105
90～105
100～120
95～105
室温
100～120
90～105
110～120
注：配方1适用于纯铝和含铜量较低的铝合金；
配方2适用于纯铝和铝镁铜合金LY12；
配方3适用于工业纯铝和铝镁合金LT66；
配方4适用于含铜、锌较高的高强度铝合金；
配方5适用于高硅铝合金ZL18；
配方6、配方7、配方8为无黄烟铝及铝合金化学抛光，WXP系列及M、N、SP系列均为浙江黄岩荧光化
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