化学镀不同于原来的电镀,它是一种不需要通电,依据氧化还原反应原理,利用强还原剂在含有金属离子的溶液中,将金属离子还原成金属而沉积在经活化处理的各种材料表面,从而形成致密的金属镀层。
满足化学镀的条件如下:
(1)镀液中还原剂的还原电位要显著低于沉积金属的电位,使金属有可能在基材上被还原而沉积出来。(2)配好的镀液不产生自发分解,当与催化表面接触时,才发生金属沉积过程。(3)调节溶液的pH值、温度时,可以控制金属的还原速率,从而调节镀覆速率。(4)被还原析出的金属也具有催化活性,这样氧化还原沉积过程才能持续进行,镀层连续增厚。(5)反应生成物不妨碍镀覆过程的正常进行,即溶液有足够的使用寿命。
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